Síntesis y caracterización de óxido de níquel nanoestructurado para aplicaciones en MEMS [recurso electrónico] / Jorge Iván Cardoza Navarro ; director, Nicola Radnev Nedev ; codirector, Oscar Manuel Pérez Landeros
Tipo de material:
Archivo de ordenadorDetalles de publicación: Mexicali, Baja California, 2025Descripción: 1 disco compacto ; 4 3/4 plg; 1 recurso en línea, 80 p. : il. col., gráficasTema(s): Aleaciones de níquel -- Tesis y disertaciones académicas | Dispositivos electromecánicos -- Tesis y disertaciones académicas | Semiconductores de metal-óxido -- Tesis y disertaciones académicasClasificación LoC:TA480.N6 | C37 2025Recursos en línea: Tesis Digital
Nota de disertación: Tesis (Maestría) --Universidad Autónoma de Baja California. Instituto de Ingeniería, Mexicali, 2025. Resumen: El presente trabajo de investigación aborda la síntesis y caracterización de: 1) películas delgadas de níquel (Ni), posteriormente oxidadas, 2) nanopartículas (NPs) de níquel, posteriormente oxidadas, y 3) estructuras basadas en NPs de óxido de níquel (NiOx) embebidas en películas de NiOx depositadas por sputtering. El objetivo principal fue evaluar cómo las condiciones de deposición y oxidación afectan las propiedades estructurales, morfológicas y ópticas del NiOx. Las películas y NPs de NiOx fueron depositadas sobre silicio y cuarzo para caracterizar sus propiedades ópticas, estructurales y eléctricas.
| Tipo de ítem | Biblioteca actual | Colección | Signatura | Copia número | Estado | Fecha de vencimiento | Código de barras |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Tesis | Biblioteca Central Mexicali | Colección de Tesis | TA480.N6 C37 2025 (Browse shelf(Abre debajo)) | 1 | Disponible | MXL125737 |
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Maestría en Ingeniería.
Tesis (Maestría) --Universidad Autónoma de Baja California. Instituto de Ingeniería, Mexicali, 2025.
Incluye referencias bibliográficas.
El presente trabajo de investigación aborda la síntesis y caracterización de: 1) películas delgadas de níquel (Ni), posteriormente oxidadas, 2) nanopartículas (NPs) de níquel, posteriormente oxidadas, y 3) estructuras basadas en NPs de óxido de níquel (NiOx) embebidas en películas de NiOx depositadas por sputtering. El objetivo principal fue evaluar cómo las condiciones de deposición y oxidación afectan las propiedades estructurales, morfológicas y ópticas del NiOx. Las películas y NPs de NiOx fueron depositadas sobre silicio y cuarzo para caracterizar sus propiedades ópticas, estructurales y eléctricas.
