TY  - DATA
AU  - Lizárraga Maldonado,Alejandro
AU  - Curiel Álvarez,Mario Alberto
ED  - Universidad Autónoma de Baja California.
TI  - Estudio y caracterización de películas delgadas basadas en silicio depositadas por sputtering con magnetrón RF
AV  - QC176.8.M34 L59 2015
PY  - 2015///
CY  - Mexicali, Baja California
KW  - Pulverización catódica magnetrón
KW  - Tesis y disertaciones académicas
N1  - Maestría y Doctorado en Ciencias e Ingeniería; Tesis (Maestría) --Universidad Autónoma de Baja California; Incluye referencias bibliográficas
N2  - En el presente trabajo se estudian las propiedades de películas delgadas basadas en Silicio depositadas por medio de Espurreo con Magnetrón RF empleado Argón como gas de trabajo a diferentes presiones. Las películas obtenidas se analizaron por medio de Microscopía de Fuerza Atómica (AFM), Espectroscopía de rayos X por energía dispersiva (EDS), Elipsometría Espectroscópica de Angulo Variable (VASE) y técnicas de caracterización eléctrica. Para el análisis de los datos de elipsometría se realizaron ajustes por medio de diversos modelos de funciones dieléctricas (B-Spline, Osciladores Generales) y se calcularon las constantes ópticas de las diferentes muestras. Un estudio preliminar de Elipsometría Espectroscópica (SE) permitió observar que las películas depositadas poseían constantes ópticas de óxidos de Silicio sub-estequiométricos (SiOx) con diferentes composiciones. Los espectros obtenidos de EDS confirmaron la presencia de Oxígeno en diferentes concentraciones en los depósitos y se observó una relación entre la presión de trabajo y el cambio de las constantes ópticas. A pesar de que la composición elemental de las películas no correspondía a las condiciones de depósito empleadas, se estudiaron sus propiedades ópticas y eléctricas de los depósitos y se propuso un modelo de elipsometría para la función dieléctrica de los depósitos
UR  - https://drive.google.com/file/d/0B7AGEh5aIwoTaUVNWEl4OUx1LXM/view?usp=sharing
ER  -