TY  - BOOK
AU  - Córdova Cortez,Luis Fernando
AU  - Valdespino Padilla,Duilio
ED  - Universidad Autónoma de Baja California.
TI  - Optimización de las condiciones de depósito de películas de VOx preparadas por la técnica de erosión iónica
AV  - TK7871.15.F5 C67 2024
PY  - 2024///
CY  - Ensenada, Baja California
KW  - Ciencias
KW  - Tesis y disertaciones académicas.
KW  - Películas delgadas
N1  - Licenciatura; Universidad Autónoma de Baja California. Facultad de Ciencias, Ensenada, 2024.; Incluye referencias bibliográficas e índice
N2  - En esta investigación se estudió la influencia de las condiciones de depósito de películas de óxido de vanadio no estequiométrico (VOx), preparadas sobre sustratos de Si [100], utilizando la técnica de erosión iónica d.c. asistida por magnetrón. Variando el flujo de oxígeno (0 mL/min y 3.6 mL/min) y la temperatura del tratamiento térmico ex situ (500 oC, 550 oC y 600 oC). Posteriormente se analizó la composición de las películas, su morfología y su resistividad. En cuanto a la composición, las muestras de 500 oC de temperatura de recocido y sin flujo de oxígeno presentaron diferentes fases de óxido de vanadio (V2O5, V2O3 y V3O7), al aumentar la temperatura a 600 oC se obtiene la fase pura V2O5 en muestras con y sin flujo de oxígeno. Las muestras de VOx sin oxígeno presentaron una morfología de granos más grandes (0. 99 μ𝑚 ± 0. 23 μ𝑚) que las crecidas con oxígeno (0. 63 μ𝑚 ± 0. 19 μ𝑚).
En base a la resistividad calculada por medio del método de cuatro puntas y el efecto Hall, las películas en presencia de flujo de oxígeno durante el depósito muestran una resistividad promedio menor que las crecidas sin presencia de flujo de oxígeno.

UR  - https://drive.google.com/file/d/1O5Lnsrz0TxSl-eTRS9XfmslBqTYbKqCL/view?usp=drive_link
ER  -