Síntesis y caracterización de bicapa de Cr2O3-Cr para su aplicación en la fabricación de fotomáscaras [recurso electrónico] / Alicia Márquez Sández ; dirigida por Franklin David Muñoz Muñoz
Tipo de material:
TextoDetalles de publicación: Ensenada, Baja California, 2019Descripción: 1 recurso en línea xi, 72 p. : ilTema(s): Ingeniería -- Tesis y disertaciones académicas | FotolitografíaClasificación LoC:TR940 | M37 2019Recursos en línea: Tesis Digital.
Nota de disertación: Tesis (Licenciatura) -- Universidad Autónoma de Baja California, Facultad de Ingeniería, Arquitectura y Diseño, Ensenada, 2019 Resumen: En este trabajo de tesis, se llevó a cabo la síntesis de películas delgadas de óxido de cromo (III) sobre cromo (Cr2O3/Cr) en sustratos de vidrio y soda-lime, por el método de erosión iónica reactiva DC, para la fabricación de fotomáscaras con aplicación en fotolitografía. Con el objetivo de encontrar los parámetros experimentales para el sistema bicapa, se sintetizaron películas delgadas de Cr y Cr2O3 por erosión iónica reactiva DC, donde se llevó a cabo la variación los flujos de Ar y O2, además de la potencia y la presión de trabajo. Para conocer las propiedades químicas, ópticas y morfológicas de las películas delgadas de Cr y Cr2O3, se utilizaron las técnicas de caracterización de espectroscopia de fotoelectrones por rayos X (XPS), elipsometría espectroscópica (SE), microscopía de fuerza atómica (AFM) y microscopia electrónica de barrido (SEM), respectivamente. La relación estequiométrica entre los elementos Cr y O en la película sintetizada de Cr2O3 fue 2.0:3.0 (Cr:O), mientras que para el sistema bicapa de Cr2O3/Cr fue 2.0:3.5. Se obtuvieron películas de Cr y Cr2O3 con rugosidades de 3.74 nm y 1.37 nm, respectivamente. La tasa general de crecimiento para el Cr fue de 10.15 nm/min y para el Cr2O3 fue de 4.02 nm/min. Se comprobó la síntesis de un sistema bicapa de Cr2O3/Cr con 214 nm de espesor, compuesto de una capa de 34 nm de Cr2O3 y 180 nm de Cr. Con el sistema bicapa de Cr2O3/Cr obtenido, se fabricaron fotomáscaras por escritura con láser. Las fotomáscaras obtenidas fueron comparadas ópticamente con una fotomáscara comercial. Las propiedades ópticas presentadas por la fotomáscara fabricada presentan un comportamiento similar a las de una fotomáscara comercial.
| Tipo de ítem | Biblioteca actual | Colección | Signatura | Copia número | Estado | Fecha de vencimiento | Código de barras |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Tesis | Biblioteca Central Ensenada | Colección de Tesis | TR940 M37 2019 (Browse shelf(Abre debajo)) | 1 | Disponible | ENS090725 |
Tesis (Licenciatura) -- Universidad Autónoma de Baja California, Facultad de Ingeniería, Arquitectura y Diseño, Ensenada, 2019
Incluye referencias bibliográficas e índice
En este trabajo de tesis, se llevó a cabo la síntesis de películas delgadas de óxido de cromo (III) sobre cromo (Cr2O3/Cr) en sustratos de vidrio y soda-lime, por el método de erosión iónica reactiva DC, para la fabricación de fotomáscaras con aplicación en fotolitografía. Con el objetivo de encontrar los parámetros experimentales para el sistema bicapa, se sintetizaron películas delgadas de Cr y Cr2O3 por erosión iónica reactiva DC, donde se llevó a cabo la variación los flujos de Ar y O2, además de la potencia y la presión de trabajo. Para conocer las propiedades químicas, ópticas y morfológicas de las películas delgadas de Cr y Cr2O3, se utilizaron las técnicas de caracterización de espectroscopia de fotoelectrones por rayos X (XPS), elipsometría espectroscópica (SE), microscopía de fuerza atómica (AFM) y microscopia electrónica de barrido (SEM), respectivamente. La relación estequiométrica entre los elementos Cr y O en la película sintetizada de Cr2O3 fue 2.0:3.0 (Cr:O), mientras que para el sistema bicapa de Cr2O3/Cr fue 2.0:3.5. Se obtuvieron películas de Cr y Cr2O3 con rugosidades de 3.74 nm y 1.37 nm, respectivamente. La tasa general de crecimiento para el Cr fue de 10.15 nm/min y para el Cr2O3 fue de 4.02 nm/min. Se comprobó la síntesis de un sistema bicapa de Cr2O3/Cr con 214 nm de espesor, compuesto de una capa de 34 nm de Cr2O3 y 180 nm de Cr. Con el sistema bicapa de Cr2O3/Cr obtenido, se fabricaron fotomáscaras por escritura con láser. Las fotomáscaras obtenidas fueron comparadas ópticamente con una fotomáscara comercial. Las propiedades ópticas presentadas por la fotomáscara fabricada presentan un comportamiento similar a las de una fotomáscara comercial.
