Diseño y construcción de un sistema de depósito por capas atómicas para la obtención de películas delgadas semiconductoras y aislantes
Navarro Rodríguez, Jackeline
Diseño y construcción de un sistema de depósito por capas atómicas para la obtención de películas delgadas semiconductoras y aislantes [recurso electrónico] / Jackeline Navarro Rodríguez ; director, Francisco David Mateos Anzaldo ; codirector, Jesús Román Martínez Castelo - Mexicali, Baja California, 2025. - 1 disco compacto ; 4 3/4 plg. 1 recurso en línea, 90 p. : il. col., gráficas
Maestría en Ingeniería.
Tesis (Maestría) --Universidad Autónoma de Baja California. Instituto de Ingeniería, Mexicali, 2025.
Incluye referencias bibliográficas.
La industria de semiconductores exige constantemente nuevas alternativas para obtener materiales con propiedades superiores, fundamentales para el desarrollo de la electrónica moderna. En respuesta a esta demanda, el presente proyecto de investigación se centró en el diseño y construcción de un sistema de depósito por capas atómicas (ALD, por sus siglas en inglés “Atomic Layer Deposition”), que permite la deposición de películas semiconductoras y aislantes de espesor nanométrico a bajas temperaturas, mediante el uso de precursores en fase gaseosa. La técnica de ALD ofrece ventajas significativas, tales como: control preciso del espesor, capacidad para generar multicapas, uniformidad excepcional y recubrimiento conformal sobre estructuras tridimensionales con alta relación de aspecto.
Películas ópticas--Tesis y disertaciones académicas.
Capas atómicas--Diseño y construcción--Tesis y disertaciones académicas.
QC378 / N38 2025
Diseño y construcción de un sistema de depósito por capas atómicas para la obtención de películas delgadas semiconductoras y aislantes [recurso electrónico] / Jackeline Navarro Rodríguez ; director, Francisco David Mateos Anzaldo ; codirector, Jesús Román Martínez Castelo - Mexicali, Baja California, 2025. - 1 disco compacto ; 4 3/4 plg. 1 recurso en línea, 90 p. : il. col., gráficas
Maestría en Ingeniería.
Tesis (Maestría) --Universidad Autónoma de Baja California. Instituto de Ingeniería, Mexicali, 2025.
Incluye referencias bibliográficas.
La industria de semiconductores exige constantemente nuevas alternativas para obtener materiales con propiedades superiores, fundamentales para el desarrollo de la electrónica moderna. En respuesta a esta demanda, el presente proyecto de investigación se centró en el diseño y construcción de un sistema de depósito por capas atómicas (ALD, por sus siglas en inglés “Atomic Layer Deposition”), que permite la deposición de películas semiconductoras y aislantes de espesor nanométrico a bajas temperaturas, mediante el uso de precursores en fase gaseosa. La técnica de ALD ofrece ventajas significativas, tales como: control preciso del espesor, capacidad para generar multicapas, uniformidad excepcional y recubrimiento conformal sobre estructuras tridimensionales con alta relación de aspecto.
Películas ópticas--Tesis y disertaciones académicas.
Capas atómicas--Diseño y construcción--Tesis y disertaciones académicas.
QC378 / N38 2025
